分析测试中心于2020年引进美国赛默飞世尔科技公司生产的Helios G5 CX聚焦双束显微镜，现已安装、调试完毕，从2020年11月起进入试运行阶段。

Helios G5 CX可实现在高分辨扫描电子显微成像观察的同时，对感兴趣区域用聚焦离子束进行原位切割，并对切出的截面进行形貌观察和微区元素定性/定量分析。此外，可对感兴趣区域定点制备透射电镜分析用样品，避免了机械加工方法对样品的损伤。

Helios G5 CX聚焦双束显微镜配备镓(Ga)金属作为离子源，利用加速电压产生的离子束来进行特定图案的加工，具备材料切割、金属沉积、金属蚀刻和选择性蚀刻氧化等功能。广泛应用于材料、化工、环境、制药和微电子等领域。该仪器性能国内领先，配置合理，其最大优势是在电子束高分辨率成像同时，用离子束精细切割功能实现在纳米级别样品的切割、现场截面观测和成分分析（随机配备牛津Ultim Max 65 X射线能谱仪），并能在感兴趣区域为透射电镜分析制备纳米尺度样品。Helios G5 CX聚焦双束显微镜非常适合对透射电镜无法直接观察的块材及较大颗粒样品进行系统分析和制样，先用高分辨扫描电镜模式进行观察，精确地找到想要研究区域的形貌特征和化学成分，确定感兴趣区域后通过离子束沉积、切割、转移、减薄等多个步骤制备出适合透射电镜观察的样品。

Helios G5 CX聚焦双束显微镜放置在电镜中心101室，试运行期间收费实行半价制，欢迎广大师生垂询和使用！

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