8月11日下午，台湾淡江大学林谕男教授应我院胡晓君教授邀请为我院师生做了题为“The development of high conductive UNCD films and the potential application”的学术报告。

报告中，林谕男教授详细介绍了其课题组在导电超纳米金刚石（UNCD）薄膜领域的发展过程，主要包括“N-UNCD”、“HiD”、“Au-UNCD”等研究内容，使其电导率最高达到了186 (Ωcm)^-1，在世界范围内处于领先水平。林谕男教授提出，制约UNCD薄膜电导率提高的主要原因是膜内的非晶碳，控制非晶碳的产生是解决问题的关键。他还将制得的高电导率的UNCD薄膜应用于场发射等电子器件领域，肯定UNCD薄膜材料美好的应用前景。他开阔的学术视野，专业的学术精神，谦逊的学术作风赢得了在场师生的尊重。报告结束后，林谕男教授与师生进行了交流与讨论，并就材料学科的发展、教师科研的开展、研究生的培养等方面提出了宝贵的意见。学院也希望借此次林谕男教授来访的契机，今后由线及面，以教师带动学科，与优秀学者、课题组开展更多的交流活动。

林谕男，博士，台湾淡江大学教授。1970年本科毕业于国立台湾师范大学物理系，1973年硕士毕业于国立清华大学物理系，1983年博士毕业于美国加州大学伯克利分校材料科学系。先后在清华大学（台湾）材料学中心和淡江大学物理系工作。主要研究方向包括高电导率金刚石薄膜的制备、性能和应用以及材料的透射电镜表征等。在Small，Appl. Phys. Lett.，ACS Appl. Mater. Interfaces，J. Appl. Phys.，Diamond and Relat. Mater. 等国际知名杂志发表论文100余篇。